细粉加工设备(20-400目)
我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备，拥有多项国家专利，能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目，是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。
超细粉加工设备(400-3250目)
LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术，专注于400-3250目范围内超细粉磨加工，细度可调可控，突破超细粉加工产能瓶颈，是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。
粗粉加工设备(0-3MM)
兼具磨粉机和破碎机性能优势，产量高、破碎比大、成品率高，在粗粉加工方面成绩斐然。
宁波四氟化碳
南大光电研究报告：国产先进电材引领者，含氟特气构筑新空间
2023年10月12日 从国内各种电子特气的具体情况来看，含氟特气（特别是三氟化氮、四氟化碳、六氟化钨）具有用量规模大、国产化率相 对较高的特点，三氟化氮、六氟化钨等 2024年1月2日 用途 是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨 四氟化碳化工百科 ChemBK
四氟化碳的性质及制备技术
四氟化碳（CF 4 ） 是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生 2024年6月26日 四氟甲烷是目前微电子工业中用量最大的等离子体蚀刻气体，广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电 四氟化碳(CAS No 75730)生产厂家四氟化碳价格
昊华科技子公司黎明院生产的高纯含氟电子气体国产化成功
5 天之前 国家重大专项项目组专项办公室责任专家马振宇教授表示，这标志着极大规模集成电路行业用高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体实现了国产化。 据悉，目前相关产品已 2022年3月23日 2021 年中国四氟化碳总产能超过 3000 吨，其中成都科美特特种气体公司产能占比高达 38%，位居首位；黎明院四氟化碳产能为 200 吨，产能占比达 6%。 飞源气 国内四氟化碳产能（吨/年） 行业研究数据 小牛行研
高纯四氟化碳
四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻；在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术 2008年10月23日 四氟化碳 999%; CAS Number: 75730; EC Number: 2008965; Linear Formula: CF4; find SigmaAldrich MSDS, related peerreviewed papers, 四氟化碳 999% SigmaAldrich
四氟化碳（电子级）福建德尔科技股份有限公司
2019年8月24日 四氟化碳（电子级） 四氟化碳是一种无色、无臭、不燃的可压缩惰性气体。 它是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻 2008年10月23日 四氟化碳 999%; CAS Number: 75730; EC Number: 2008965; Linear Formula: CF4; find SigmaAldrich MSDS, related peerreviewed papers, technical documents, similar products more at SigmaAldrich Aldrich 产品 如果您查询到的批号为四氟化碳 999% SigmaAldrich
WikiPredia 四氟化碳
四氟甲烷，也称为四氟化碳或R14，是最简单的全氟化碳( C F 4 )。正如 IUPAC 名称所示，四氟甲烷是烃类甲烷的全氟化对应物。它也可以归类为卤代烷或卤代甲烷。四氟甲烷是一种有用的制冷剂，但也是一种有效的温室气体。[3]由于碳氟键的性质，它具有非常高的键强度。2021年11月16日 四氟甲烷CF 4 四氟甲烷（Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane），亦称四氟化碳，全氟化碳，FC14（ R14 ）。 化学式CF 4 。 相对分子量8800。 在常温下，四氟化碳是无色、无臭、不燃，不溶于水的可压缩性气体。 沸点128℃，熔点1836℃。 液体密度（130℃）1613g 四氟甲烷,四氟化碳
四氟化碳 Carbon tetrafluoride 物竞化学品数据库
1由碳与氟反应，或一氧化碳与氟反应，或碳化硅与氟反应，或氟石与石油焦在电炉里反应，或二氟二氯甲烷与氟化氢反应，或四氯化碳与氟化银反应，或四氯化碳与氟化氢反应，都能生成四氟化碳。四氯化碳与氟化氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行四氟化碳 是目前微电子工业中用量最大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。 1可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4H2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体 99999%（5N）高纯四氟化碳
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2016年11月11日 成都恒源气体有限公司 王经理 联系 座机： 400 @ 四川省成都市双流区黄甲镇文庙社区五组112号 在线咨询 四氟化碳成都恒源气体有限公司 用户名：四氟化碳，又称为四氟甲烷、Freon14及R 14，是一种卤代烃（化学式：CF4）。 它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳，也可以被视为一种无机化合物。 零下198 °C时，四氟化碳具有单斜的结构，晶格常数为a = 8597, b= 4433, c = 8381 (101 四氟化碳百度文库
常压下微波等离子体处理四氟化碳的研究 豆丁网
2014年8月19日 常压下微波等离子体处理四氟化碳的研究pdf 随着现代工业的发展，温室气体排放与日俱增。 在众多温室气体中，全氟化 碳（PFCs）因其具有低毒、化学性质稳定等特点，被广泛应用于工业生产。 PFCs 将引起强烈的温室效应。 微波等离子体处理PFCs气 2017年6月16日 四氟化碳是 一种造成温室效应 的气体。 它非常稳定，可以长时间停留在大气层中，是一种非常强大的 温室气体。它在大气中的寿命约为50,000年，全球增 温(全球暖化)系数是 6,500(二氧化碳的系数是1)。 虽 然结构与氟氯烃相 似，但四氟化碳不会破坏臭氧层。四氟化碳360百科
即使被它淹没也不会窒息，这是什么神奇液体？ 把科学带回家
2020年4月29日 结构最简单的 氟碳化合物 是四氟化碳（全氟化碳） 图源：Wikipedia 氟碳化合物常温下 溶解氧气的能力可达血液的3倍 （35~70mL/100mL），溶解二氧化碳更不在话下 （122~255 mL/100mL）。而且它的 化学结构非常稳定，不容易发生反应，是无色、无味 2006年1月23日 物理化学性质：在常温下，四氟化碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体，沸点：128℃，熔点：1836℃。 液体密度1613g/cm3 (130℃)，临界温度4567℃，临界压力：374Mpa，介电常数：10006 (25℃,05Mpa)。 挥发性较高，是最稳定的有机化合物之一，在900℃时，不与 四氟化碳百度文库
四氟化碳广州谱源气体供应高纯四氟化碳四氟甲烷R14CF4价格
2008年12月22日 四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体，充装于四氟化碳钢瓶中，饱和蒸汽压约压力2000 psig。四氟化碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温 四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻；在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污 高纯四氟化碳
浙江中宁硅业有限公司
2023年12月4日 COMPANY PROFILE 公司简介 浙江中宁硅业股份有限公司成立于2007年12月，“氟硅之都”浙江省衢州市，公司占地近600亩，注册资本295亿。 2018年4月成为上市公司多氟多新材料股份有限公司控股企业，2023年9月，公司完成股份制改造。 公司是一家专注于电子特气、新 2019年8月24日 四氟化碳（电子级） 四氟化碳是一种无色、无臭、不燃的可压缩惰性气体。 它是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻 四氟化碳（电子级）福建德尔科技股份有限公司
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